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Princípio de trabalho da máquina de revestimento a vácuo de pulverização de magnetron
O princípio de trabalho de uma máquina de revestimento a vácuo de pulverização de magnetron é usar um campo magnético e material de destino para depositar material no substrato por pulverização.
O princípio de trabalho específico é o seguinte:
1. Prepare o ambiente a vácuo: coloque o substrato a ser processado em uma câmara de vácuo e evacue a câmara de vácuo através do sistema de escape para formar um ambiente de vácuo.
2. Aqueça o material alvo: o dispositivo de aquecimento alvo na câmara de vácuo aquece o material alvo para atingir a temperatura de evaporação.
3. Gere um campo magnético: coloque um dispositivo de campo magnético próximo ao material alvo e aplique um campo magnético para formar uma área de campo magnético na superfície do material alvo.
4. Processo de pulverização: Quando o material alvo atinge a temperatura de evaporação, os átomos na superfície do material alvo começam a evaporar e formar plasma sob a ação do campo magnético. Esses plasmas afetarão ou tocam átomos ou moléculas do material alvo.
5. Deposição no substrato: Posteriormente, os átomos ou moléculas pulverizadas são depositadas na superfície do substrato para formar o filme desejado.
Ao controlar os parâmetros do processo da pulverização, como a temperatura do material alvo, a potência da pulverização, a pressão do gás, etc., a espessura, a composição e a estrutura do filme depositado podem ser controladas.
Em geral, as máquinas de revestimento a vácuo de pulverização de magnetron aquecem e evaporam o material alvo e depositam os átomos ou moléculas pulverizadas no substrato sob a ação do campo magnético para alcançar a preparação de filmes finos.
| Material do substrato | PET/pp 3 μm ~ 12μm |
| Largura 1350mm (largura efetiva da deposição: 1300 mm) | |
| Velocidade da linha | 2m/min (de cada lado 1μm x nos dois lados) |
| Capacidade de produção: cerca de 95.000m 2 /mês | |
| Especificação do revestimento | Catodo de categor de magnetron rotativo 32set |
| Pressão operacional do ar: 0,5 ~ 1,0Pa | |
| Tratamento de superfície | Aquecedor ou bombardeio |
| Desempenho da membrana | Composição da membrana: camada de adesão (SP)/camada de eletrodo Cu (evaporação)/camada de proteção (SP) |
| Distribuição de espessura: ± 5 % | |
| Resistência à membrana: 25mΩ □ |

KOTA Technology Limited Company foi criado em 2012, com um capital registrado de 10 milhões de yuans, é uma empresa nacional de alta tecnologia. Sediada em Xangai, China, a empresa possui uma série de subsidiárias de propriedade integral e mantida em Nantong, Yancheng e outros lugares na província de Jiangsu, e estabeleceu centros de P&D na China e no Japão para lançar o mercado global. Atualmente, a empresa se tornou um conhecido fabricante doméstico de equipamentos inteligentes domésticos e é uma empresa no campo de equipamentos de papel alumínio de cobre de lítio no país. A equipe técnica principal da empresa, liderada pelo Sr. Matsuda Mitsuya, em Nagoya, Japão, concentra-se no desenvolvimento e integração de equipamentos de fabricação e sistema de automação de ponta no campo de equipamentos eletromecânicos de alta precisão. Através da introdução de conceitos de tecnologia e design avançados japoneses e a importação de peças de precisão originais do Japão, os vários produtos de equipamentos produzidos pela empresa tornaram -se referências do setor.








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Veja mais 1. Criando um ambiente de vácuo controlado
A primeira etapa no processo de pulverização de magnetron é criar um ambiente de vácuo controlado. A câmara de vácuo, que é parte integrante do processo de revestimento, abriga o substrato e o material alvo. Ao preparar a câmara, ela é evacuada usando um sofisticado sistema de escape para obter um alto grau de vácuo. O vácuo é necessário para eliminar partículas de ar, poeira ou qualquer forma de contaminação que possa interferir na qualidade da deposição de filmes finos.
Criar este vácuo também permite o Rolo de vácuo para rolar o sistema de pulverização dupla face Operar com resistência mínima, tornando o processo de deposição mais eficiente. Impede a oxidação do material alvo e garante que apenas os átomos pulverizados do material alvo sejam depositados no substrato. No caso da Hongtian Technology Co., Ltd., o ambiente de vácuo normalmente varia de 0,5 a 1,0 pA, uma faixa de pressão ideal para a pulverização de camadas metálicas como cobre ou alumínio.
Uma vez que a câmara está sob o vácuo desejado, o substrato é cuidadosamente alinhado para garantir o revestimento uniforme. Substratos como PET (tereftalato de polietileno) ou PP (polipropileno), normalmente em espessuras variando de 3 μm a 12 μm, são movidos continuamente durante o processo de revestimento. O vácuo garante que o revestimento seja aplicado de forma consistente em toda a área de superfície do substrato. O rolo de vácuo para rolar o sistema de pulverização de dupla face foi projetado para operações de alta velocidade, com uma velocidade de linha de cerca de 2 metros por minuto. Isso o torna ideal para produção em larga escala, com o sistema Hongtian Technology Co., Ltd., capaz de revestir aproximadamente 95.000 metros quadrados por mês.
Ao controlar o vácuo, o sistema minimiza qualquer contaminação potencial e fornece um ambiente limpo e estável para o processo de pulverização, garantindo que o filme revestido final atenda às especificações necessárias para espessura, uniformidade e adesão.
2. Processo de pulverização de magnetron: deposição de material
Depois que o ambiente a vácuo é configurado, o processo de pulverização começa. A Hongtian Technology Co., Ltd. utiliza um cátodo rotativo magnetron sputtering com 32 conjuntos de magnetrons, que são estrategicamente colocados para garantir a deposição uniforme de material em ambos os lados do substrato. O processo de pulverização começa quando um gás inerte, normalmente argônio, é introduzido na câmara de vácuo. Uma alta tensão é aplicada ao material alvo, fazendo com que os íons gasosos se tornem ionizados.
As moléculas de gás ionizadas colidem com o material alvo, desalojando os átomos da superfície alvo. Esses átomos são então ejetados e viajam pelo vácuo para o substrato, onde condensam e formam um revestimento fino e uniforme. O processo é altamente controlado, com a Hongtian Technology Co., Ltd., garantindo que a espessura do revestimento seja mantida dentro de uma faixa precisa de tolerância de ± 5%, permitindo uma qualidade consistente durante toda a produção.
Uma das principais vantagens do processo de pulverização de magnetron é sua capacidade de revestir os dois lados do substrato simultaneamente. Essa pulverização dupla aumenta significativamente a eficiência e reduz o tempo de produção, o que é um grande benefício para as indústrias que exigem grandes volumes de materiais revestidos. O material de destino usado na pulverização pode variar dependendo do aplicativo; Por exemplo, o cobre (Cu) é comumente usado como material de eletrodo, enquanto outros materiais podem ser usados para camadas de proteção. A Hongtian Technology Co., Ltd. garante que os materiais de destino sejam aquecidos adequadamente, fornecendo condições ideais para a pulverização.
Além dos revestimentos de metal padrão, o sistema também acomoda a deposição de filmes complexos de várias camadas, como camadas de adesão (SP), camadas de eletrodo (Cu) e camadas de proteção (SP). Essa abordagem em camadas aumenta o desempenho do revestimento, melhorando sua durabilidade, condutividade elétrica e resistência à corrosão. O cátodo de pulverização do magnetron rotativo garante que a deposição seja uniforme e consistente em ambos os lados do substrato, permitindo que a Hongtian Technology Co., Ltd. produza materiais revestidos de alta qualidade que atendam aos rígidos padrões de várias indústrias.
3. Otimizando a qualidade e o desempenho do revestimento
Garantir a qualidade e o desempenho do revestimento é uma parte crítica do processo de pulverização. O sistema está equipado com recursos projetados para aprimorar a adesão e a durabilidade dos filmes finos aplicados aos substratos. Depois que o material é cuspido no substrato, a Hongtian Technology Co., Ltd. emprega um tratamento de aquecimento ou bombardeio de íons para melhorar a adesão entre o revestimento e o substrato. Esta etapa é essencial para garantir que o revestimento permaneça intacto durante o manuseio ou aplicação subsequentes, particularmente em ambientes exigentes.
A composição do revestimento normalmente consiste em uma camada de adesão (SP), uma camada condutiva de eletrodo (Cu) e uma camada protetora (SP). Essa combinação de camadas oferece vários benefícios, incluindo força mecânica aprimorada, condutividade elétrica e resistência ao desgaste e corrosão. A camada protetora garante que o revestimento seja resistente a fatores ambientais como umidade, poeira e flutuações de temperatura, o que é particularmente importante em indústrias como eletrônicos e automotivos.
A Hongtian Technology Co., Ltd. coloca uma grande ênfase no controle da uniformidade e espessura do revestimento. Com uma tolerância à distribuição de espessura da membrana de ± 5%, o sistema garante que cada substrato processado sob seu rolo de vácuo para rolar o sistema de pulverização dupla face receba um revestimento consistente. Essa precisão é essencial para aplicações onde a uniformidade e a confiabilidade são cruciais, como na produção de semicondutores, painéis solares ou acabamentos decorativos em peças automotivas.
A resistência do revestimento final é tipicamente em torno de 25 MΩ □, um valor que garante baixa resistência elétrica e excelente condutividade, essencial para aplicações em sistemas eletrônicos e de armazenamento de energia. O alto nível de controle sobre o processo de revestimento e a capacidade de produzir grandes quantidades de material de alta qualidade tornam a tecnologia Hongtian Technology Co., Ltd.