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Descrição do equipamento de revestimento de substrato cerâmico semicondutor
● Princípio: Injete uma pequena quantidade de gás argônio em um recipiente de campo elétrico de alta tensão selado a vácuo para ionizar o gás argônio e gerar um fluxo de íons de argônio, que é direcionado para o material alvo (relacionado à preparação da camada compósita de metal de cobre na tecnologia de processamento de substrato cerâmico de DPC). Esta é uma etapa no processo de tecnologia de processamento de substrato de cerâmica DPC. Embora não seja descrito diretamente como especificamente para o equipamento de revestimento de substrato de cerâmica semicondutores, pertence ao princípio do equipamento que pode estar envolvido no processo de metalização do substrato de cerâmica e pode ser usado como referência. O objetivo é cuspir e unir uma camada composta de metal de cobre em um substrato de cerâmica, que é a base para processos subsequentes, como a fabricação de circuitos.
● Função no processo: O revestimento de uma camada composta de metal no substrato de cerâmica é um importante pré-processo para a produção subsequente de circuitos e outros processos de substrato de cerâmica de DPC. Através deste método, o substrato cerâmico pode ter melhor condutividade e outras propriedades, atendendo às necessidades dos semicondutores e outros campos.
Modelo de equipamento: HX1314-4MF
Tamanho do equipamento: φ1300*H1400

KOTA Technology Limited Company foi criado em 2012, com um capital registrado de 10 milhões de yuans, é uma empresa nacional de alta tecnologia. Sediada em Xangai, China, a empresa possui uma série de subsidiárias de propriedade integral e mantida em Nantong, Yancheng e outros lugares na província de Jiangsu, e estabeleceu centros de P&D na China e no Japão para lançar o mercado global. Atualmente, a empresa se tornou um conhecido fabricante doméstico de equipamentos inteligentes domésticos e é uma empresa no campo de equipamentos de papel alumínio de cobre de lítio no país. A equipe técnica principal da empresa, liderada pelo Sr. Matsuda Mitsuya, em Nagoya, Japão, concentra-se no desenvolvimento e integração de equipamentos de fabricação e sistema de automação de ponta no campo de equipamentos eletromecânicos de alta precisão. Através da introdução de conceitos de tecnologia e design avançados japoneses e a importação de peças de precisão originais do Japão, os vários produtos de equipamentos produzidos pela empresa tornaram -se referências do setor.








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Veja mais 1. Por que o equipamento de revestimento de substrato cerâmico semicondutor é essencial para a produção avançada de circuitos?
Equipamento de revestimento de substrato cerâmico semicondutor está no coração da fabricação moderna de semicondutores, desempenhando um papel fundamental no aumento do desempenho e confiabilidade dos substratos cerâmicos usados em dispositivos eletrônicos. O processo de aplicação de uma camada composta de metal, normalmente de cobre, ao substrato de cerâmica, é crucial para a preparação de substratos que podem suportar circuitos complexos e atender aos requisitos rígidos de condutividade dos dispositivos semicondutores. Esse revestimento serve como base para as etapas subsequentes, como a fabricação de circuitos, garantindo que o substrato de cerâmica forneça a condutividade elétrica e a estabilidade térmica necessária para o desempenho do dispositivo.
A Hongtian Technology Co., Ltd., líder em equipamentos de revestimento de substrato cerâmica semicondutores de ponta, está comprometido em fornecer soluções avançadas e personalizadas para fabricantes na indústria de semicondutores. Com nosso foco na fabricação e garantia de processos inteligentes, nos esforçamos para atender às necessidades específicas de nossos clientes, fornecendo produtos que suportam a criação de componentes de semicondutores de alto desempenho.
Nosso equipamento de revestimento de substrato cerâmico semicondutor garante alta precisão, consistência e eficiência no processo de pulverização. Ao introduzir o gás argônio em um recipiente selado de alto vácuo e ionizando-o para gerar um fluxo de íons argônio, permitimos uma camada composta metal suave e uniforme para unir com o substrato cerâmico. Essa ligação é essencial para garantir que os substratos de cerâmica possam lidar com os intrincados circuitos que formam a espinha dorsal da tecnologia de semicondutores. Os revestimentos resultantes melhoram a condutividade e a durabilidade dos substratos, tornando -os adequados para uso em aplicações altamente exigentes, como microchips, tecnologia de LED e dispositivos de energia.
Na Hongtian Technology Co., Ltd., entendemos o papel crítico que os substratos de cerâmica semicondutores desempenham no desempenho de dispositivos eletrônicos. Nosso equipamento avançado foi projetado para atender aos requisitos precisos desse setor, fornecendo aos fabricantes as ferramentas necessárias para criar produtos de alta qualidade que tenham desempenho confiável nas condições mais desafiadoras. Ao investir em equipamentos de revestimento de substrato de cerâmica semicondutores de alta qualidade, nossos clientes estão melhor equipados para permanecer à frente em um mercado competitivo, garantindo a produção de componentes duráveis de alto desempenho.
2.Como o processo de revestimento funciona para obter precisão e qualidade?
O processo de revestimento usado na produção de substrato de cerâmica semicondutores é altamente especializado e requer tecnologia avançada para garantir o desempenho ideal. Na Hongtian Technology Co., Ltd., nosso equipamento de revestimento usa um recipiente selado de alto vácuo, dentro do qual o gás de argônio é introduzido e ionizado para gerar íons argônio. Esses íons são então direcionados para um material alvo, normalmente cobre, que forma uma fina camada composta de metal na superfície do substrato cerâmico. Essa camada é a primeira etapa na preparação do substrato para a fabricação subsequente de circuitos eletrônicos.
Nosso equipamento foi projetado para fornecer o nível mais alto de precisão nesse processo, garantindo que a camada composta de metal seja aplicada uniformemente e que a ligação entre o metal e a cerâmica seja forte e durável. A técnica de pulverização de íons de argônio usada em nosso equipamento permite controle fino sobre a espessura e a qualidade do revestimento de metal, o que é crítico para alcançar as propriedades necessárias de condutividade e gerenciamento térmico exigidas pelos dispositivos semicondutores.
A precisão desse processo de revestimento é essencial para garantir que os substratos cerâmicos possam suportar as demandas elétricas e as tensões térmicas que encontrarão em suas aplicações finais. Um revestimento ruim ou desigual pode levar a defeitos, desempenho ruim ou até falha do componente final de semicondutor. É por isso que a Hongtian Technology Co., Ltd. coloca uma ênfase tão forte na personalização de ponta e na fabricação inteligente para atender às necessidades específicas de cada cliente, garantindo que os substratos cerâmicos sejam revestidos com os padrões da mais alta qualidade em mente.
Nosso equipamento integra tecnologias de garantia de processo que permitem que os fabricantes monitorem e controlem todos os aspectos do processo de revestimento. Desde a introdução do gás argônio até a aplicação da camada composta metálica, cada etapa é cuidadosamente regulada para manter a consistência e a precisão. Esse nível de controle é essencial para a produção de substratos de alta qualidade que apoiarão a criação de dispositivos semicondutores confiáveis e duráveis. Ao alavancar nossa experiência e tecnologia avançada, nossos clientes podem ter certeza de que estão usando o melhor equipamento disponível para o processo de revestimento de substrato semicondutores.
3. Quais são as principais vantagens do uso de equipamentos de revestimento de ponta na produção de semicondutores?
High-end Equipamento de revestimento de substrato cerâmico semicondutor Oferece uma gama de vantagens cruciais para os fabricantes que visam permanecer competitivos na indústria de semicondutores em rápida evolução. Na Hongtian Technology Co., Ltd., estamos comprometidos em fornecer soluções inteligentes e de alto desempenho que ajudam nossos clientes a obter maior eficiência, precisão e confiabilidade em seus processos de fabricação.
Uma das principais vantagens do uso de equipamentos de revestimento de ponta é a capacidade de obter uma camada composta de metal uniforme e de alta qualidade no substrato de cerâmica. Essa uniformidade é essencial para garantir que o substrato tenha a condutividade elétrica necessária e as propriedades térmicas necessárias para a criação de circuitos semicondutores.
Outra vantagem importante é o aumento da eficiência e velocidade do processo de revestimento. O equipamento da Hongtian Technology Co., Ltd. foi projetado para otimizar o processo de pulverização, reduzindo o tempo de inatividade e aumentando a taxa de transferência sem sacrificar a qualidade. Nossos sistemas de fabricação inteligentes incorporam tecnologias avançadas de controle de processos que permitem monitoramento e ajustes em tempo real, garantindo que o processo de revestimento esteja em execução com eficiência de pico.
A confiabilidade e durabilidade dos revestimentos produzidos por equipamentos de ponta também são benefícios significativos. A ligação forte e consistente entre o compósito metálico e o substrato cerâmico ajuda a melhorar o desempenho a longo prazo dos dispositivos semicondutores que dependem desses substratos. Com nossos equipamentos, os fabricantes podem produzir substratos de cerâmica que têm um bom desempenho sob cargas elétricas altas, altas temperaturas e outras condições exigentes.